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電鍍工藝去離子水設(shè)備被廣泛應(yīng)用在電子、電力超純水，化工，電鍍超純水，鍋爐補(bǔ)給水及醫(yī)藥用超純水等工業(yè)超純水，高純水的制備上。

電鍍涂裝行業(yè)去離子水處理設(shè)備應(yīng)用范圍：電子工業(yè)用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水。制藥行業(yè)用水：大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等。

實(shí)驗(yàn)室用去離子水處理設(shè)備可用于化妝品行業(yè)：護(hù)膚品生產(chǎn)用純水、洗發(fā)水生產(chǎn)用純水、染發(fā)劑生產(chǎn)用純水、牙膏生產(chǎn)用純水 、洗手液生產(chǎn)用水。電子工業(yè)：鋁箔清洗;電子管噴涂配液;顯相管;玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗;液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。

大型直飲水去離子水工藝設(shè)備根據(jù)項(xiàng)目原水特征，結(jié)合已有的經(jīng)驗(yàn)，在確保出水達(dá)標(biāo)的前提下，采用成熟、可靠、技術(shù)先進(jìn)的處理工藝。系統(tǒng)設(shè)備全面采用實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化和系統(tǒng)化的設(shè)計(jì)方式，以便快速安裝和以后系統(tǒng)維護(hù)。

工業(yè)去離子水設(shè)備EDI系統(tǒng)與相當(dāng)處理水量的混床相比，有較小的體積，它采用積木式結(jié)構(gòu)，可依據(jù)場地的高度和窨靈活地構(gòu)造。模塊化的設(shè)計(jì)，使EDI在生產(chǎn)工作時(shí)能方便維護(hù)。